气体纯化装置中高纯气体氩气纯化装置。氩气作为制作单晶及多晶硅的保护气体,为了提高硅晶体的质量,如何选用较高纯度的氩气,是制作硅晶体的一个议题。通过对气体纯化装置的使用,氩气的纯度其中氧含量小于1ppm时,水分也小于1ppm时,制作出的单晶硅其氧碳含量就小于0.5ppm,这样就提高了单晶的使用寿命并能达到要求,赢得客户的满意和市场的需求。
由于一般液氩汽化后未经过纯化处理,它的氧含量一般在2ppm~5ppm。有时气体供应商提供的氩气超过了此范围,使用氩气的客户不知道其质量,所以往往给生产产品质量造成影响。有了氩气气体纯化装置后不论氩原料气的质量如何,只要经过气体纯化装置的处理后,进入拉晶炉的氩气,纯度始终是恒定的。
气体纯化装置净化则采用了世界先进的净化材料。其特点有吸附深度好,吸收杂质气体量大的特点,纯度可达99.9999%以上。并安装了小于1μ的金属过滤器。保证了气体粉末的要求。气体纯化装置设备中全部容器、管道、阀门均为不锈钢材质。气体纯化装置设备中的主要控制仪表全部采用国内外产品。接头采用高纯接头,保证了无渗透。外观设计采用流行颜色及形式,使产品更美观。气体纯化装置可根据客户要求在线加装微氧分析仪和微量水分析仪使净化后气体得到监测。避免了因设备问题的损失。气体纯化装置在金属保护行业、电子、电光源、科研、气体、分析、医学等领域以及光谱仪、气相色谱仪、科学仪器等的配套使用设备,得到了广泛的应用。